半导体产业的基石是芯片,制作芯片的核心材料按照历史进程分为:第一代半导体材料(大部分为目前广泛使用的高纯度硅),第二代化合物半导体材料(砷化镓、磷化铟),第三代化合物半导体材料以碳化硅和氮化镓为代表。
碳化硅是第三代半导体产业发展的重要基础材料,碳化硅功率器件以其优异的耐高压、耐高温、低损耗等性能,能够有效满足电力电子系统的高效率、小型化和轻量化要求。
在新能源汽车、光伏发电、轨道交通、智能电网等领域具有明显优势。因其优越的物理性能:高禁带宽度(对应高击穿电场和高功率密度)、高电导率、高热导率,有望成为未来最被广泛使用的制作半导体芯片的基础材料。
图表来源:IHS Market
近年来新能源汽车驱动碳化硅行业高速成长,较传统的燃油汽车相比,新能源汽车半导体元器件功率更大,性能要求更高,用量几倍于传统燃油汽车。根据现有技术方案,每辆新能源汽车使用的功率器件价值约700美元到1000美元。
随着新能源汽车的发展,对功率器件需求量日益增加,成为功率半导体器件新的增长点。使用碳化硅衬底材料,为新能源汽车节省大量成本。
一、碳化硅产业链
半导体芯片分为集成电路和分立器件,但不论是集成电路还是分立器件,其基本结构都可划分为“衬底-外延-器件”结构。
碳化硅产业链也可分为三个环节:分别是上游衬底,中游外延片和下游器件制造。
图表来源:中信证券
二、碳化硅上游 - 衬底
碳化硅在半导体中存在的主要形式是作为衬底材料。碳化硅晶片作为半导体衬底材料,长晶难度大,技术壁垒高,毛利率可达50%左右。已经过外延生长、器件制造等环节,可制成碳化硅基功率器件和微波射频器件。晶片尺寸越大,对应晶体的生长与加工技术难度越大。
碳化硅晶片产业链:
图表来源:天科合达招股说明书
衬底常用Lely法制造,国际主流采用6英寸晶圆,正向8英寸晶圆过渡;国内衬底以4英寸为主,主要用于10A以下小电流产品。全球碳化硅市场呈现寡头垄断局面,欧美日企业领先美国全球独大,全球SiC产量的70%~80%来自美国公司。海外碳化硅单晶衬底企业主要有Cree、DowCorning、SiCrystal、II-VI、新日铁住金、Norstel等。其中CREE、II-VI等国际龙头企业已开始投资建设8英寸碳化硅晶片生产线。
国内企业也在积极研发和探索碳化硅器件的产业化,已经形成相对完整的碳化硅产业链体系。中国企业在单晶衬底方面以4英寸为主,目前已经开发出了6英寸导电性SiC衬底和高纯半绝缘SiC衬底。
以天科合达和山东天岳为主的SiC晶片厂商发展速度较快,市占率提升明显。三安光电在SiC方面也在深度布局。山东天岳、天科合达、河北同光、中科节能均已完成6英寸衬底的研发,中电科装备研制出6英寸半绝缘衬底。华润微拥有3条6英寸产线和一条正在建设的12英寸产线,并拥有国内首条实现商用量产的6英寸碳化硅晶圆生产线。
露笑科技2020年引进碳化硅重磅研发团队并联合合肥政府共同投资碳化硅。
三、碳化硅中游 - 外延
外延常用PECVD法制造。国外外延片企业主要有DowCorning、II-VI、Norstel、CREE、罗姆、三菱电机、英飞凌等;器件方面相关主要企业包括英飞凌、CREE、罗姆、意法半导体等。国内从事外延片生长的企业包括厦门瀚天天成和东莞天域半导体等;从事碳化硅器件设计制造的企业包括泰科天润、华润微、绿能芯创、上海詹芯、基本半导体、中国中车等。
同时从事外延生长和器件制作的企业包括中电科五十五所、中电科十三所和三安集成等。外延片方面,中国瀚天天成、东莞天域半导体、国民天成均可供应4-6英寸外延片。模块方面有斯达半导体、比亚迪电子、中车时代电气等公司。
四、碳化硅下游 - 器件
下游器件的制造效率越高、单位成本越低。器件领域国际上600-1700V碳化硅SBD、MOSFET都已量产,Cree已开始布局8英寸产线,国内企业碳化硅MOSFET还有待突破,产线在向6英寸过渡。碳化硅器件领域代表性的企业中,目前来看在国际上技术比较领先的是美国的Cree,其覆盖了整个碳化硅产业链的上下游(衬底-外延-器件),具有核心的技术。下游碳化硅器件市场,美国Cree占据最大市场份额,达26%,其次为罗姆和英飞凌,分别占据21%和16%的市场份额。英飞凌已经推出了采用转模封装的1200V碳化硅(SiC)集成功率模块(IPM),并大规模推出了SiC解决方案。国内厂商主要有器件:泰科天润、瀚薪、扬杰科技、中电55所、中电13所、科能芯、中车时代电气等;模组:嘉兴斯达、河南森源、常州武进科华、中车时代电气目前碳化硅市场处于起步阶段。
碳化硅功率器件产业链公司梳理:
资料来源:银河证券
Yole预计2025年碳化硅射频器件全球市场规模可达250亿美元,2023年碳化硅功率器件全球市场规模可达14亿美元。在未来的10年内,碳化硅器件有望大范围地应用于工业及电动汽车领域。
资料来源:Yole, 中信建投
五、碳化硅应用领域
目前碳化硅(SiC)半导体仍处于发展初期,晶圆生长过程中易出现材料的基面位错,以致碳化硅器件可靠性下降。
另一方面,晶圆生长难度导致碳化硅材料价格昂贵,预计想要大规模得到应用仍需一段时期的技术改进。
汽车应用领域,碳化硅器件替代硅器件是确定的发展趋势。碳化硅功率器件的应用领域在持续的拓展。
特斯拉Model3是第一个集成全SiC功率模块的车企,主要采购意法半导体的650V碳化硅功率器件,特斯拉逆变器由24个1-in-1功率模块组成,这些模块组装在针翅式散热器上。比亚迪车规级的IGBT已经走到5代,碳化硅Mosfet已经走到3代,第4代正在开发当中,目前在规划自建产线。若如期实现,比亚迪将继续维持国内三电技术领先的地位,并且在续航表现上与其他国内车企拉开一大截。
5G基站方面,对碳化硅衬底也有较大需求。
根据Yole和CREE预测,受益5G的普及与5G基站的建设,碳化硅基氮化镓外延功率器件市场规模将从2018年6.45亿美金增长到2024年的20亿美金,年均复合增速达20.76%,2027年市场规模有望达到35亿美金。
当前国内电子行业处于成长期,正朝着核心技术含量和附加值更高的环节迈进,部分产品性能已经能够达到国际先进水平。电子行业作为新一代信息技术中的核心组成部分,在国家更为重视科技发展的大背景下,有望进一步获得政策和资金的大力支持。
随着政策不断扶持和资金助力,国内电子企业有望在高技术含量和高附加值环节实现更多技术突破,加速国产化替代进程,产业链整体具备广阔的成长空间。
来源:乐晴智库精选